Субсидии помогут Micron установить оборудование для литографии в глубоком ультрафиолете голландской фирмы ASML для производства современных чипов.
Правительство Японии одобрило субсидии в размере 192 миллиардов йен (1,3 миллиарда долларов США) для завода по производству микросхем в Хиросиме компании Micron Technology.
Это решение является частью усилий Токио по поддержке производства полупроводников следующего поколения внутри страны.
Субсидии помогутMicron установить оборудование для литографии в глубоком ультрафиолете голландской фирмы ASML Holding для производства современных чипов, заявил во вторник министр экономики, торговли и промышленности Ясутоси Нисимура. По его словам, такие чипы будут необходимы для искусственного интеллекта, центров обработки данных и технологий беспилотного вождения. Поддержка охватывает почти 40 процентов инвестиционных планов Micron в Японии.
«Рынок сейчас переживает тяжелые времена, но очень важно, чтобы мы инвестировали в такие времена», — сказал Нисимура на очередной пресс-конференции, имея в виду общеотраслевой спад, который повлиял на доходы Micron. «Это необходимо для обеспечения поставок передовых чипов, которые понадобятся Японии для ее будущей экономической безопасности».