В новосибирском Институте физики полупроводников СО РАН создали эталон для наноразмерных объектов


Новосибирские ученые из Института физики полупроводников имени Ржанова разработали стандарт измерений для наноматериалов.

Об этом сообщает «Интерфакс» со ссылкой на старшего научного сотрудника института Сергея Косолобова.

«Мы создали эталонный объект, его зарегистрировали в Государственном реестре средств измерений РФ, он используется, в частности, производителями силовых микроскопов. Это эталон высоты», — заявил Косолобов.

Ученый объяснил, что в условиях сверхвысокого вакуума им удалось получить поверхности размером от 10 до 300 микрон с предельной на данный момент гладкостью. Шероховатости на этих поверхностях равны «высоте» одного атома кремния. Высота одной атомной «ступени» всегда одинакова — 0,3 нанометра. Однако технологии позволяют построить шероховатости высотой от одной до нескольких сотен атомных ступеней.

«Если мы соберем 10 таких ступеней, мы получим стандарт высоты размером 3 нанометра и так далее. На данный момент в мире таких стандартов, меньших, чем 90-100 нанометров, нет», — отметил Косолобов. Он пояснил, что эталон очень важен для калибровки приборов.

Эталон был создан с помощью электронного микроскопа, значительно усовершенствованного сотрудниками института. Они встроили в прибор сверхвысоковакуумную камеру. Как объяснил Косолобов, камера позволяет исключить помехи, связанные с влиянием окружающей атмосферы на исследуемый образец поверхности, и изучать его на атомном уровне.

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *