В Европе началась новая программа Magic по внедрению [[безмасочного способа литографии]] в производство ИС с проектными нормами 32 нм
В январе 2008 года была сформирована группа, занимающаяся разработкой оборудования и инструментов для проведения безмасочного процесса литографии. В нее входят Mapper Lithography B.V. (Нидерланды) IMS Nanofabrication AG (Австрия), а также STMicroelectronics, CEA-Leti, Synopsys, Qimonda, KLA-Tencor, Fraunhofer и другие компании.
Первые доклады будут представлены на Конференции по литографии (SPIE Advanced Lithography, 24-29 февраля 2008, Сан-Хосе, Калифорния) уже в течение этой недели.
Применение безмасочного способа литографии расширит возможности производителей полупроводниковых устройств, позволяя изготавливать приборы с проектными нормами 32 нм и меньше.