Компании Dai Nippon Printing Co. Ltd., Brion Technologies и STMicroelectronics объединились для совместной разработки системы более глубокого [[анализа параметров фотошаблонов.]]
Новая система позволяет промоделировать изготовление фотошаблона и сверить полученные размеры с эталонными. Система рассчитана на шаблоны с топологическими нормами 45 нм и менее. Проверка на основе модели позволяет оптимизировать процесс верификации фотошаблонов.
Компания STMicroelectronics уже внедрила технологию Brion Tachyon OPC+ в системы оптической коррекции эффекта близости (OPC — optical proximity correction) в ИС с проектными нормами 45 и 55 нм.
Планируется также использовать сочетание технологий Tachyon OPC+ и Tachyon Lithography Manufacturing Check (контроль процесса литографии) для верификации фотошаблонов с шагом 90, 65 и 45 нм.