У EUV-литографии альтернатив нет

Компания Zygo, разработчик и производитель оптических систем и электрооптических измерительных приборов, получила от «главной полупроводниковой компании» заказ объемом 2 млн долл. на производство усовершенствованной оптики для установок фотолитографии глубокого ультрафиолета (EUV).

Оптическая система, на создание которой потребуется около двух лет, предназначена для разработки технологического процесса EUV-литографии.

Демонстрационная EUV-установка компании ASML на 300-мм фабрике IMEC. Источник: IMEC

Этот заказ будет выполняться в рамках научно-исследовательского проекта MET-5 по созданию установки для микроэкспонирования. Проект возглавляет консорциум Sematech. Усовершенствованная оптическая система позволит исследователям работать с элементами шириной менее 16 нм для разработки нового техпроцесса.

В октябре 2011 г. Zygo уже получила заказ объемом 9 млн долл. на разработку оптической системы в рамках проекта MET-5 от консорциума Sematech и Группы по наноразмерной науке и технике (College of Nanoscale Science and Engineering, CNSE). Условия соглашения предусматривают создание оптики для систем субмикронной литографии. Ожидается, что на разработку и производство зеркальной системы для EUV-литографии, в которой будет применяться высокоточная оптика от Zygo, потребуется 22 месяца.

Неясно, почему новый заказ поступил от «главной полупроводниковой компании», а не от CNSE или Sematech. Все компании — IBM, Intel, Globalfoundries Samsung, TSMC и Toshiba – работают с Группой CNSE. Однако Intel и TSMC являются наиболее вероятным кандидатами на роль главной полупроводниковой компании, поручившей Zygo изготовить оптические системы для субмикронной литографии.

Intel является мировым лидером в области миниатюризации производственных процессов. Так, например, эта компания уже работает по 22-нм технологии с использованием стандартных методов оптической литографии. В то же время компания TSMC получила экспериментальную установку для субмикронной литографии от ASML Holding, благодаря чему имеет возможность ускорить разработку соответствующего процесса. При этом компания IBM считается лидером в Альянсе CPA (Common Platform Alliance), в который входят Samsung и Globlfoundries.

Следует заметить, что Люк ван ден Хоув, президент IMEC (микро- и наноэлектронный научный центр), считает, что у субмикронной литографии нет альтернативы — она и в дальнейшем будет применяться в производстве микросхем. Этот научный центр приобрел у ASML самую первую установку для субмикронной литографии, однако до сих пор не смог решить проблему отсутствия достаточно яркого источника света.

В настоящее время ASML прилагает огромные усилия, чтобы решить эту задачу. Для реализации литографической технологии по нормам 10 нм и меньше предлагалось использовать электронно-лучевые установки и другие методы, однако ван ден Хоув уверен, что существующая проблема будет решена уже выбранным способом.

Центр IMEC сотрудничает с ASML более 20 лет. Если ASML большее внимание уделяет вопросам создания оборудования, то IMEC занимается разработкой этапов техпроцесса, резистов, фотошаблонов и пр. По словам Хоува, настало время, когда нельзя создать новый инструмент, не учтя особенностей техпроцесса и технологического оборудования на производстве.

Источник: EE Times

Оставьте отзывОтмена