TSMC сегодня сообщила, что [[впервые в практике кремниевых мастерских]], предложила услугу MLM (multi-layer mask service) по изготовлению шаблонов для 90, 80 и 65 нм технологий
Тайваньская кремниевая мастерская TSMC сегодня сообщила, что впервые в практике кремниевых мастерских, предложила услугу MLM (multi-layer mask service) по изготовлению шаблонов для 90, 80 и 65 нм технологий. Новая услуга MLM может быть использована при создании прототипов пластин, а также в мелкосерийном производстве.
В отличие от стандартной процедуры, когда для каждого слоя изготавливается свой собственный шаблон, TSMC предложила новый подход, при котором изображение всех слоев формируется на одном фотошаблоне. В дальнейшем, с помощью специальной IT системы, в автоматическом режиме, восстанавливаются шаблоны для каждого слоя, при этом компания гарантирует сохранение характеристик всех шаблонов и качество выпускаемой продукции.
По заявлениюTSMC, услуга MLM позволяет сократить количество шаблонов, используемых в полупроводниковом производстве, перенося изображения с одного шаблона для нескольких слоев на один фотооригинал. В результате, клиенты платят только за число изготовленных фотооригиналов, плюс за обработку данных для каждого слоя шаблона.
Ed Chen, старший директор по стратегии и маркетингу услуг из TSMC, сообщил, что компонуя шаблоны для четырех слоев на один фотооригинал, достигается наилучшее соотношение цена/производительность, снижается стоимость шаблонов, что позволяет клиентам осваивать перспективные технологии с более низкими NRE инвестициями.
Из других новостей кремниевых мастерских. В среду IBM сообщила, что она лицензировала свою 45 нм bulk CMOS технологию крупнейшему китайскому контрактному производителю кремниевых полупроводниковых пластин, конкуренту TSMC, компании Semiconductor Manufacturing International Corp., для использования при производстве 300 мм пластин.