Samsung Electronics начала строительство производственной линии для 7-нм EUV-литографии стоимостью 5,6 млрд долларов


Подтверждая неофициальную информацию, компания Samsung Electronics 23 февраля объявила о начале строительства линии про производству полупроводниковой продукции с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

По мнению производителя, новая линия позволит ему «упрочить лидерство в технологических процессах с нормами, измеряемыми единицами нанометров».

Говоря более конкретно, в Samsung решили использовать EUV, начиная с 7-нанометрового техпроцесса, оптимизированного по критерию энергопотребления микросхем (Low Power Plus или LPP).

Ожидается, что строительство завершится во втором полугодии 2019 года, а в 2020 году начнется освоение производства. Первоначальные инвестиции в предприятие на период до 2020 года оцениваются в 6 млрд долларов. В зависимости от потребностей рынка эта сумма может быть увеличена.

Завод располагается в городе Хвасон, провинция Кёнгидо. Церемония с закладкой первого камня в фундамент с участием представителей власти и местных жителей состоялась 23 февраля.

На заводе будет установлено новое оборудование для литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) из Голландии. Массовое производство продукции должно начаться уже в следующем году.

Общие затраты на новый завод составят около 5,6 млрд долларов. Источники утверждает, что на заводе будет установлено, как минимум, 10 вышеупомянутых станков, каждый из которых стоит около 140 млн долларов.

Новый завод должен помочь Samsung успешно конкурировать с компанией TSMC, которая уже приступила в тестовому производству микросхем по нормам 7 нм. Лидером данного рынка с долей 55% является TSMC.

Источник: The Investor

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *