Для него уже создана и испытана ключевая технология — мультикатод, позволяющий формировать сразу множество электронных лучей.
Как сообщается в материале «Известий», благодаря этому установка сможет экспонировать кремниевую пластину всего за 5–7 минут — примерно в 3 тыс. раз быстрее традиционных однолучевых электронных литографов. Разработчики рассчитывают, что новое решение позволит конкурировать с зарубежными аналогами на российском рынке и укрепить позиции страны в сфере микроэлектроники.
Главным преимуществом технологии перед существующими многолучевыми решениями стал способ формирования самих электронных источников. В отличие от зарубежных систем, использующих сложные схемы расщепления одного луча с большим количеством зеркал и оптических затворов, российская разработка создает сразу множество независимых источников электронов на единой подложке. Это позволяет существенно снизить требования к инженерной инфраструктуре, энергопотреблению и стоимости оборудования.
Разработчики рассчитывают, что при запуске проекта первый опытный образец литографа может быть создан примерно через три года. В дальнейшем технология, по их оценке, сможет использоваться для производства микросхем с различными технологическими нормами — от традиционных 350 нм до перспективных процессов с топологией в несколько нанометров. При этом, как отмечает команда проекта, предельное разрешение сегодня определяется прежде всего характеристиками применяемых фоторезистов, а не возможностями самого источника электронного пучка.