Samsung Electronics начала строительство производственной линии для 7-нм EUV-литографии стоимостью 5,6 млрд долларов 27.02.201825.07.2026 Оборудование для производства чипов Мировой рынок Литография Производство электроники Новости Подтверждая неофициальную информацию, компания Samsung Electronics 23 февраля объявила о начале строительства линии про производству полупроводниковой продукции с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
Samsung перейдет на фотолитографию жёсткого ультрафиолета EUV при переходе на нормы 7 нм 19.02.201826.07.2026 Оборудование для производства чипов Мировой рынок Литография Новости На конференции International Solid-State Circuits Conference (ISSCC) 2018 компания Samsung рассказала об освоении технологии литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).