ASML рассматривает оборудование для изготовления чипов Hyper-NA как следующий шаг в уменьшении размера чипов — поставки начнутся в 2030 году

Уменьшение размеров транзисторов имеет решающее значение для дальнейшего увеличения производительности чипов, поэтому полупроводниковая промышленность работает над различными способами уменьшения размеров транзисторов. В ближайшие годы производители микросхем планируют внедрить новейшие инструменты ASML для литографии в крайнем ультрафиолете (EUV) с высокой числовой апертурой, которые будут особенно полезны для чипов пост-3-нм класса. Но что дальше? В ASML говорят, что Hyper-NA в настоящее время изучается для создания еще не определенных новых инструментов, которые появятся в 2030-х годах для производства будущих поколений чипов