Китайские чипмейкеры в 2019 году получат оборудование для 7-нм EUV-литографии


Основные китайские производители полупроводниковых микросхем уже ведут переговоры с ASML о закупке оборудования для литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Оно будет использоваться для выпуска продукции по нормам 7 нм.

Об этом сообщает сайт DigiTimes, ссылаясь на слова руководителя китайского отделения ASML. Представитель компании, выпускающей оборудование для полупроводникового производства, уточнил, что установка первой системы EUV в Китае ожидается в 2019 году.

Предполагается, что примеру ведущего производителя, имя которого поставщик не называет, последуют и другие китайские компании, работающие в этой области.

У ASML в Китае насчитывается более 40 клиентов и объем продаж в этой стране быстро растет: если за прошлый год было выручено 600 млн долларов, то только за минувшее полугодие — 400 млн долларов. Потенциал же рынка в ASML оценивают в 3,55 млрд долларов, так что продажам есть куда расти.

По словам ASML, заказчики оборудования из разных стран находятся в равных условиях. Как только заказ получен, начинается изготовление системы. Поскольку система для EUV-литографии состоит более чем из 50 000 компонентов, между подтверждением заказа и отгрузкой проходит 21 месяц.

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *