Как «спасти» закон Мура?


Одним из способов сохранить в силе закон Мура и уберечь, таким образом, отрасль от неприятных для нее последствий, состоит в присвоении каждой серии изменений техпроцесса, например на 20 нм, последовательно меньшей проектной нормы.

Таким образом, метод двойного экспонирования с использованием EUV- и иммерсионной литографии будет по-прежнему использоваться для изготовления кристаллов по нормам 16, 14, 10 нм и т.д. в полном соответствии с законом Мура. И до тех пор, пока размеры того или иного элемента кристалла поддаются измерению, имеется возможность подтвердить соответствие этого размера заявленной проектной норме.

Разумеется, те преимущества в сокращении площади кристаллов и их стоимости, которые прежде достигались при переходе на новые нормы, в дальнейшем не будут такими очевидными. Однако в том случае, если заинтересованность проектировщиков кристаллов в снижении энергопотребления будет превалировать над их стремлением уменьшить площадь ИС по мере перехода к меньшим топологическим нормам, будет наблюдаться дальнейший прогресс.

Источник: EE Times

Читайте также:
Intel сокрушит ARM на проектных нормах менее 20 нм
Globalfoundries пытается обойти конкурентов: 14 нм к 2014 г.
Спин-транзисторы разгонят компьютеры в миллион раз

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *