Intel успешно совершенствует 14-нм технологию

Главный директор по технологиям Intel Джастин Раттнер (JustinRattner) заверил, что 14 нм будут освоены вовремя.

4 декабря Джастин Раттнер (JustinRattner), главный директор по технологиям (CTO) Intel, на встрече в Тайване заявил о том, что разработка 14-нм технологии идет по графику, а серийное производство по этому техпроцессу начнется через 1–2 года. В настоящее время Intel совместно с партнерами осваивает производство на основе 450-мм пластин.

Раттнер также заметил, что агрессивное освоение 14-нм технологии компанией Intel позволит распространить действие закона Мура еще на 10 лет.

В конце 2013 г. Intel станет производить поколение 14-нм процессоров (P1272) и СнК (1273) (в скобках приведены условные обоpначения технологических процессов по терминологии Intel), а также инвестирует в фабрики D1X Fab (шт. Орегон), Fab 42 (шт. Аризона), Fab 24 (Ирландия), после чего в 2015 г. займется освоением норм 10, 7 и 5 нм.

Конкурирующая с Intel компания Samsung планирует уже в 2013 г. использовать 20-нм техпроцесс. В настоящее время эта компания работает над 14 нм, а TSMC намеревается запустить небольшое серийное производство первых объемных кристаллов ПЛИС по норме 20 нм во второй половине 2013 г. Компания Globalfoundries некоторое время назад заявила о том, что опытное производство по 14-нм FinFET-процессу начнется в конце 2013 г., а серийное – в 2014 г.

Что касается производства на основе 450-мм пластин, то Intel инвестировала в голландскую компанию ASML с целью ускорить создание EUV-установок. Ожидается, что изготовление ИС по соответствующим технологиям стартует в 2017 г.

Источник: DigiTimes

Оставьте отзывОтмена