Intel фактически признала поражение в гонке за лидерство при освоении фотолитографии жёсткого ультрафиолета (EUV)


Доля Intel в компании ASML, выпускающей передовое литографическое оборудование, стала меньше 3%; ставка на переход к EUV и 450-мм пластинам не оправдалась?

Согласно данным, появившимся в реестре Нидерландского управления по финансовым рынкам (AFM), компания Intel снова уменьшила свое участие в компании ASML Holding, выпускающей передовое литографическое оборудование. Сейчас участие Intel в ASML Holding не превышает 3%.

В июле 2012 года компания Intel объявила о заключении сделки, по условиям которой она получала 15% ASML в обмен на 4,1 млрд долларов. Предполагалось, что это поможет ускорить переход от пластин диаметром 300 мм к пластинам диаметром 450 мм и развитие литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

В декабре 2017 года в AFM засвидетельствовали, что доля Intel стала менее 5%.

Похоже, что компания Intel, некогда являвшаяся крупнейшим в мире производителем микросхем, отказалась от притязаний на лидерство в освоении EUV. Отметим, что разработки в этой области компания Intel начала одной из первых, еще в конце 1990-х годов.

Ожидается, что Intel в ближайшее время не будет осваивать EUV. Компания испытывает трудности с обычной литографией на этапе 10 нм, так что ей не до этапа 7 нм, на котором планировалось внедрение EUV.

Конкуренты в лице Samsung и TSMC продолжают разработку технологии EUV, рассчитывая на ее освоение в 2019 году.

Источник: CDRinfo

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *