Компания Lam Research представила технологию сухого фоторезиста

На протяжении десятилетий в отрасли применяется метод фотолитографии с использованием жидких фоторезистов. По мере того как размеры элементов приближаются к нанометровому диапазону, где мельчайшие детали и микроскопические компоненты должны располагаться с высочайшей точностью, а архитектура чипов эволюционирует в сторону вертикального наложения слоев, вероятность ошибки резко возрастает. При таких масштабах компромиссы, присущие традиционному подходу с использованием жидких фоторезистов, снижают производительность, увеличивают количество дефектов и в конечном счете препятствуют прогрессу, необходимому для создания ускорителей искусственного интеллекта и памяти следующего поколения.

https://www.icgamma.ru/brands/sipeed/?erid=2W5zFGDqcBr