Сейчас IBM ищет альтернативы технологии КМОП и архитектуре фон Неймана. Имеется потребность в ИС с биполярными кремниевыми транзисторами.
«Во время замедления действия закона Мура и распространения устройств обработки данных полупроводниковой отрасли нужно осваивать ярусные чипы», – заявил Джон Кейси (Jon Casey), сотрудник Центра полупроводниковых исследований и разработок IBM.
Сейчас IBM ищет альтернативы технологии КМОП и архитектуре фон Неймана. Имеется потребность в интегральных схемах с биполярными кремниевыми транзисторами. К тому же, 3D-интеграция позволит улучшить скорость процессов ввода/вывода, а 2,5D-интеграция и улучшенные материалы тоже обладают многими преимуществами для IBM, которая ищет экономически выгодные способы корпусирования.
Джон Кейси имеет высокую квалификацию в области интегральных схем и принимал участие в исследовании возможностей расширения технологий за пределы закона Мура, что стало темой недавней презентации Кейси на симпозиуме, посвященном отраслевой стратегии Международной ассоциации полупроводникового оборудования и материалов SEMI в Калифорнии (США). Кейси дал интервью EE Times перед симпозиумом и представил основные тезисы своего доклада.
![]() |
Джон Кейси (Jon Casey), сотрудник Центра полупроводниковых исследований и разработок IBM. Источник: SEMI
Кейси рассказал, что его взгляды в некоторой мере совпадают со взглядами Берни Мейерсона (Bernie Meyerson), высказанными в его недавнем интервью EE Times. Кейси начал с того, что закон Мура и традиционная концепция КМОП столкнулись с серьезными проблемами: «Множество статей написано о том, что закон Мура умер или скоро умрет, и называются разные даты этого события. Индустрия ИТ переживает важное смещение системы взглядов к новым архитектурам, которые действительно являются информационно-центрическими из-за огромного объема данных в этих системах».
«И в результате существует необходимость изменения подходов», – отметил Кейси. – Нам нужно делать устройства не так, как мы их делали по КМОП-технологии в течение длительного периода времени. Наши традиционные системы действительно созданы так, что не могут обрабатывать большие объемы данных, поступающих на высокой скорости. Множество таких данных являются довольно неопределенными, а это означает, что имеется множество данных, которые вам хочется игнорировать, источник которых вам не известен. Концепция традиционных микроконтроллерных устройств и фон-неймановская архитектура систем не предусматривают такого. Нам нужны альтернативные способы делать это».
Кейси отметил, что биполярные интегральные схемы возвращаются в прежнюю область технологий.
Переход на 450-мм пластины и литографию жесткого ультрафиолета (EUV) произойдет, когда он будет экономически возможным. Для этого необходимо сочетание нескольких факторов. Нужно начать переходить к объемной или гетерогенной миниатюризации на уровне интегральной схемы, чтобы удешевить повышение производительности и увеличить отдачу от дальнейшей миниатюризации.
Одним из лучших способов сделать это является 3D-интеграция. По мнению Кейси, 3D обеспечивает исключительную скорость ввода/вывода.
Традиционный 3D-стек из двух активных чипов будет выгодным прогрессивным решением. Во-первых, вы получите большую плотность, во-вторых, если вы посмотрите в целом на архитектуру для обработки данных, то ключевой характеристикой необходимой вам будет скорость доступа и оптимизация скорости ввода/вывода.
По мнению Кейси, одним из способов улучшить эти параметры является улучшение материалов, а также то, как соединены компоненты и насколько близко размещены. «Если коротко, длина соединений равняется задержке сигнала. Что мы стараемся сделать – уменьшить их. 3D является хорошим способом для этого».
Еще имеется вариант 2,5D интеграции, в большей мере привлекательный для IBM. 2,5D интеграция может основываться на кремнии, органическом материале или стекле. Мы находимся в процессе оценки этих возможностей с точки зрения работы с большими нагрузками и большими наборами данных. Если комплексно рассматривать техническую сторону, то многое из этого IBM уже делает.
Кейси отметил способность 2,5D-решений объединять чипы с абсолютно разными технологиями изготовления, чтобы получить модуль с высокой производительностью и хорошей стоимостью. Он упомянул применение модели трех чипов, первый из которых является 45-нм управляющим чипом типа кремний-на-изоляторе с КМОП процессорным кристаллом. Он устанавливается в 2,5D-устройство непосредственно после 45-нм КМОП процессорного кристалла, где также два 130-нм SiGe-транзисторных приемопередатчика установлены на кремниевом интерпозере на подложке.
Теперь вы имеете модуль с тремя кристаллами на кремниевом интерпозере. И мы получили функциональный приемопередатчик смешанных сигналов с кремниевой технологией. Скорость передачи данных между чипами составляет 2 Тбит/с, что очень много. Так можно получить интеграцию без использования наименьших технорм и получить решение, не зависящее от успеха закона Мура. Этот вопрос был главным на презентации: «Как нам обеспечивать быстродействие, если закон Мура начинает замедляться?»
В заключение, Кейси заявил, что полупроводниковая технология сейчас процветает. «Она пока что не заканчивается. Нам нужно все больше и больше устройств. Нам нужно найти наиболее экономически выгодный путь движения вперед».
Читайте также:
Основатель Broadcom о жизни электроники «после закона Мура»
Глобальный прогноз развития кремниевых технологий: он кажется шизофреническим?
Закон Мура «умрет» к 2022 г.
Квартальная прибыль IBM выросла на 6%, выручка сократилась на 5,5%
Будущее технологий изготовления ИС: битва между Intel, IBM и ST
Intel: ситуация с технормой около 7 нм становится туманной
Закон Мура побит законом Райта
14 нм – очередная проверка закона Мура
Broadcom: переход на 20 нм может привести к удорожанию мобильных устройств
Как «спасти» закон Мура?
Закону Мура угрожают проблемы с реализацией метода EUV-литографии
Источник: EE Times


