Как стало известно CNews, микроэлектронный холдинг «Элемент» строит завод по производству полупроводниковых пластин с топологией 55–40 нм в Татарстане. На базе этого предприятия в перспективе планируется освоить более сложный техпроцесс — 28 нм.
Технологическим партнером проекта выступает АО «Микрон» (входит в «Элемент»), проектный партнер — АО «НИИМЭ», кадровое обеспечение возложено на МИЭТ, КАИ и ТУСУР. В презентации также указаны четыре потенциальных донора технологий в Китае и определен список производственного оборудования под продукцию.
Ключевая стратегия проекта — поэтапное развитие. Завод должен начать работу с техпроцесса 55–40 нм, который станет «фундаментом» для последующего перехода на 28 нм. Единая линия позволит использовать до 80% капитальных затрат для обеих технологий без строительства новых корпусов и чистых комнат.
Весь цикл рассчитан на пять лет: первый год — строительство инфраструктуры, второй — холодный пуск и тестовое производство, третий — выпуск первых коммерческих чипов 55–40 нм, четвертый — пилотная линия 28 нм, пятый — индустриализация и серийное производство по топологии 28 нм.
По данным презентации, 55–40 нм — это более 50% российской электронной компонентной базы, включая логические микросхемы (MCU, ASIC, FPGA), микросхемы памяти (MRAM, RRAM), аналоговые и смешанные микросхемы, силовые и управляющие компоненты, датчики и интерфейсы.
Основными заказчиками продукции названы Росатом, Ростех, предприятия ОПК и объекты критической информационной инфраструктуры.