Для выпуска 7-нм процессоров Intel всё-таки рассчитывает применить EUV-сканеры


Если выпуск 10-нм процессоров начнётся в конце 2017 года, то производство с 7-нм нормами стартует не раньше конца 2018 года, но, скорее всего, в 2019 или даже 2020 году.

В недавнем прошлом компания Intel не раз и не два сообщала, что 10-нм и 7-нм процессоры она рассчитывает выпускать с использованием 193-нм сканеров. Во-первых, сканеры с длиной волны 13,5-нм — диапазон жёсткого ультрафиолета (EUV) — пока недостаточно производительны. Во-вторых, они достаточно дорогие, как и потребуют изменения инфраструктуры заводов. Выпускать решения уровня 10 нм и 7 нм компания собиралась с помощью многократного экспонирования.

Так, 10-нм решения для критически важных слоёв чипа могут требовать до пяти фотомасок и, соответственно, до пяти дополнительных обработок на каждый слой. Задержки с внедрением 14-нм техпроцесса и перенос массового выпуска 10-нм решений на вторую половину 2017 года показали, что подход Intel не слишком удачен. Поэтому мы не слишком удивились, когда финансовый директор компании Intel сообщил о планах использования EUV-сканеров для выпуска 7-нм продукции.

Если выпуск 10-нм процессоров начнётся в конце 2017 года, то производство с 7-нм нормами стартует не раньше конца 2018 года, но, скорее всего, в 2019 или даже 2020 году. Можно ожидать, что к тому времени будут налажен серийный выпуск EUV-сканеров с достаточной для массового производства производительностью. Сейчас EUV-сканеры ASML могут обрабатывать в непрерывном цикле в сутки до 500 пластин. Для коммерчески выгодного производства скорость обработки должна превышать 1500 пластин в сутки в режиме 24/7.

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *