CEA-Leti продлевает действие 193-нм литографии ниже 20 нм


Результаты научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ показали возможность применения 193-нм иммерсионной литографии для техпроцессов с нормами менее 20 нм (1X нм).

Организация CEA-Leti утверждает, что её мультипартнёрские программы IDEAL и IMAGINE продемонстрировали дешёвые решения, которые распространяют 193-нм иммерсионную литографию на технормы менее 20 нм (1Х) для таких критических уровней, как контакт и межслойные переходы, и для слоя отсечки при условии использования многократного экспонирования.

Leti и Arkema запустили программу IDEAL в 2011 году для разработки литографических методов, основанных на наноструктурных полимерах, используя 300-мм DSA-процесс (directed self-assembly) и новые материалы для техпроцессов 1X. Партнёры данного проекта – Sokudo, Tokyo Electron, STMicroelectronics и передовые академические лаборатории, такие как LTM и LCPO – продемонстрировали разрешающую способность DSA для полушага менее 10 нм.

«IDEAL преодолевает пределы стандартной оптической литографии при помощи технологического решения, направленного на снижение стоимости, – сказал Серж Тедеско (Serge Tedesco), управляющий программой литографии компании Leti, – Самособирающаяся литография с блоком сополимеров является многообещающей дополнительной технологией благодаря её низкой стоимости производства и её прямой интеграции в существующие процессы производства изделий».

В результате сотрудничества компаний и лабораторий также недавно завершена интеграция DSA-процесса в 300-мм опытной линии компании Leti, и новые особые модули были реализованы в 300-мм Sokudo DUO Track для покрытия, спекания и удаления полиметилметакрилата, – это один из ключевых шагов в реализации DSA процесса.

IMAGINE, научно-исследовательская и опытно-конструкторская программа многократной литографии электронным лучом, вовлекающая дюжину партнёров, нацелена на разработку безмасочной литографии, основанной на высокопроизводительных инструментах MAPPER-литографии.

В этом году программа IMAGINE будет объединять инструмент из 1300 электронных лучей (платформа Matrix) с разработкой Sokudo 300-мм DUO Track, нацеленной на производство одной пластины в час. В начале 2015 года за этим решением последует система с 13000 лучей, что даст производительность 10 пластин в час. В долгосрочной перспективе – создание кластера из 10 модулей, позволяющего выпускать 100 пластин в час с поддержкой технологии производства логических узлов размером 1Х нм.

В 2009 году проект IMAGINE был рассчитан на три года, но получил продолжение на четыре года в 2012 г. Помимо Leti и MAPPER, программа также включает компании TSMC, STMicroelectronics, Nissan Chemical, TOK, Dow, JSR Micro, Sokudo, TEL, Mentor Graphics и Aselta Nanographics.

«Эти конкретные достижения чётко показывают производителям, что DSA и ML2 могут продвинуть 193-нм иммерсионную литографию, обеспечивая рентабельное решение для шаблонов критического слоя, – сказал Тедеско, – Они также демонстрируют значение объединения широкого и глубокого технологического потенциала компаний Leti, MAPPER, Arkema и всех наших партнёров в программе, работающей в соответствии с требованиями, предъявляемыми к 1X техпроцессам».

Читайте также:
LETI: 450-мм пластины станут необходимостью на технормах менее 7 нм
IBMобрисовала будущее микроэлектроники без технологии FinFET
Технология DSA выходит на производственный уровень
«Роснано» вложит 40 млн евро в проект по микроэлекронике
Европа должна стать конструкторским центром кремниевой фотоники

Источник: ElectronicsWeekly

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *