Компания Applied Materials предлагает установку Aera2 для контроля 45 нм шаблонов на основе технологии Aerial Imaging и систему влажной очистки шаблонов Tetra Reticle Clean.
Компания Applied Materials является крупнейшим мировым производителем оборудования для изготовления кристаллов. Теперь она также будет заниматься и приборами для контроля качества фотошаблонов.
Данное решение вызвано желанием потеснить компанию KLA-Tencor на рынке. До этого момента компания KLA-Tencor была монопольным производителем оборудования для контроля фотошаблонов. Несколько других компаний уже пытались составить ей конкуренцию, но безуспешно. В настоящее время у нее появилось уже два сильных соперника: Applied Materials и NuFlare Technology.
Aera2 — система контроля 45 нм (и менее) фотошаблонов на основе технологии Aerial Imaging. Технология Aerial Imaging позволяет в реальном времени увидеть, как топологический рисунка шаблона отобразится на пластине. Система распознает дефекты по их влиянию на пластину, фильтрует большинство «непечатных» (не влияющих на изображение) дефектов, которыми изобилуют обычные системы контроля шаблонов.
По заявлению компании, система Aera2 может быть использована на всех этапах производственного процесса и более чем в двое превосходит по производительности любую из конкурирующих систем.
Проблема. Каждое новое поколение фотошаблонов использует «чрезвычайно умные» технологические решения, которые уменьшают корреляцию между рисунком шаблона и отпечатком на пластине.
Это большая проблема для традиционных систем контроля, поскольку они могут способны оценивать лишь рисунок самого шаблона, а не созданного им изображения на пластине. Эмулируя оптическую систему 193 нм литографических сканеров и размещая датчик изображения в плоскости пластины, Aera2 оценивает шаблон при тех же оптических условиях, что и в сканере при экспозиции пластины по принципу «что вижу, то и печатаю».
Примененная в системе Aera2 технология Aerial Inspection открывает новые возможности для проверки шаблонов, устанавливает более тесную связь между параметрами шаблона и результатами литографии, гарантирует пригодность шаблонов «для печати» перед их передачей в производство.
Система включает приложение «IntenCD», которое использует данные Aerial Imaging для создания высокоточных и единообразных карт критических размеров (CD, critical dimension) для всего шаблона. Это позволяет проводить прямые измерения параметров шаблона и определять их вклад в CD на поверхности пластины. Такие карты позволяют выявлять тонкие эффекты производства и помогают изготовителям шаблонов тонко настраивать параметры процесса.
Applied Materials представила также вторую новинку – систему влажной очистки шаблонов Tetra Reticle Clean, которая способна удалять загрязнения с шаблонов, не повреждая их. Более того, чистящие вещества не содержат серы, поэтому не вызывают замутнения шаблона.
В свою очередь, KLA-Tencor не собирается сдавать позиции. Она анонсировала новейшую технологию Wafer Plane Inspection (WPI), позволяющую найти дефекты как на самом шаблоне, так и на будущей пластине. Система имеет удобный интерфейс и более высокое быстродействие по сравнению с предыдущими установками.
Пока еще сложно сказать, какая из компаний, KLA-Tencor или Applied Materials, станет лидером на рынке.
