Китайский стартап Prinano наладил массовое производство фотонных чипов на 8-дюймовых кремниевых пластинах с использованием технологии, отличной от традиционных технологий литографии, и что она в десять раз дешевле.
Компания, базирующаяся в Ханчжоу, заявила, что в сотрудничестве с Shenzhen Litra Technology изготовила 8-дюймовые пластины для оптических чипов, «полностью отказавшись» от использования технологии глубокой ультрафиолетовой литографии (deep ultraviolet lithography, DUV).
По словам Prinano , при производстве использовалось оборудование для вакуумной наноимпринтной литографии (NIL) PL-AS с «индивидуально подобранными двухслойными импринтирующими материалами и процессами».
Компания заявила, что такой подход может снизить затраты на производство чипов примерно до одной десятой от стоимости традиционных решений на основе DUV, при этом обеспечив производство фотонных чипов на уровне пластины, которые широко используются в оптической связи, датчиках и лидарах.
Возможно, это станет лучом надежды для китайского сектора производства микросхем, поскольку экспорт некоторых машин DUV от ASML, а также более совершенных систем экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) этой голландской компании в Китай запрещен. Однако ведутся споры о реальной ценности наноимпринтной литографии с точки зрения объемов производства, выхода годной продукции и нефотонных чипов.
В августе прошлого года компания Prinano заявила, что поставила первому китайскому заказчику то, что она назвала первой в Китае полупроводниковой системой нейтрализации ионного тока. Это была одна из первых попыток коммерциализировать технологию для производства микросхем.