Выход годных 5-нм чипов на EUV-линии Samsung V1 всё ещё менее 50%


Передовая производственная линия V1 на предприятии Samsung Electronics в городе Хвасунг, является первой в мире специализированной линией, рассчитанной на выпуск продукции по нормам менее 7 нм с применением EUV-литографии.

Её эксплуатация началась в феврале 2020 года. Как утверждает источник, при выпуске некоторых микросхем на этой линии процент выхода годной продукции до сих пор не превышает 50%.

Между тем этот показатель является наиболее важным с точки зрения экономической эффективности. Для зрелых техпроцессов его значение превышает 95%.

В данный момент Samsung соперничает с тайваньским микроэлектронным гигантом TSMC в освоении техпроцессов с нормами 5 нм и менее.

Оставьте отзыв

Ваш емейл адрес не будет опубликован. Обязательные поля отмечены *